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  • MESA/SC晶片清洗設(shè)備
    MESA/SC晶片清洗設(shè)備

    MESA/SC晶片清洗設(shè)備該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標(biāo)及可靠性*達到進口同類設(shè)備水平。采用進口PP板制作。 適用MESA*SC晶片清洗。 超聲功率強勁,性能穩(wěn)定。 采用進口超聲波電源。

    更新時間:2021-06-10瀏覽量:2451
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